2020年度文部科学大臣科学技术领域奖川原敏之教授（综合研究所材料研究区材料创新与可持续技术实验室系统工程组/主任雾膜沉积先进技术实验室）荣获科学技术奖【研究类别】，颁奖仪式于4月15日在部举行。
文部科学省科学技术奖[研究类别]：
设立该奖项的目的是表彰在科学技术研究、开发、增进理解等方面取得显著成果的人士，以及增强广大科技工作者从事科技工作的积极性，为提高我国科学技术水平做出贡献。
科学技术奖[研究类别]针对那些进行了可能对日本科学技术发展做出贡献的原创性研究或开发的人。2020 财年，237 名申请者（56 人）中有 47 人获得了该奖项。
获奖成就名称：
环境影响低的下一代薄膜沉积技术雾气CVD法的研究
获奖者：
Hiroyuki Nishinaka（京都工业大学电气电子工程系教授）
Toshiyuki Kawaharamura（XK星空系统工程组/研究所教授）
藤田静夫（京都大学名誉教授）
摘要：
氧化物半导体的薄膜技术不可避免地涉及“高质量但环境影响大”和“低质量但环境影响低”之间的权衡。此外，还存在诸如每种器件的原材料选择有限等问题，因此需要建立一种新的、简单的且高度灵活的成膜方法。此次获奖的研究成果是世界上第一个克服这一障碍的研究成果。
这种“雾气CVD法”是一种利用超声波将水溶液变成细雾，在大气中形成薄膜的简单方法，但其特点是可以生产出与高能耗高真空法相媲美的高性能晶体。此外，设备成本已降低，量产应用已取得进展，并已实现社会应用，包括企业商业化。
这有望大幅降低制造业能源消耗，减少对环境的影响，并通过推动物质发展和增强产业竞争力，促进产业可持续发展和改善人民生活。
川原村教授在阐明原理和开发设备、提高材料多样性和量产兼容性的研究中提出了基于莱顿弗罗斯特效应*的成膜机制，为这项创新技术的实际应用做出了巨大贡献。
（左图：河原村教授 右图：西中教授）
- 川原村教授评论
- 这次我和西中教授、藤田教授一起获奖。
这正是我和当时还是学生的西中教授一起开发的技术和研究，我真的很高兴这三个人获得了这个奖项。
京都工业大学的每个人都推荐了西中教授。
感谢西中先生对我发声。
雾气CVD技术和研究本身正在从婴儿期经过生长期进入发展期的时期
这项研究的成功得益于很多人的支持。
此奖项归功于所有提供指导和支持的人的帮助。
这是所有在实验室一起工作的学生共同思考、讨论和接受新挑战的结果。
非常感谢。
我的研究还处于起步阶段，我不乏挑战。
我希望这个奖项能鼓励我做出更有趣的结果
我愿意更加努力地探索科学原理，为社会做出贡献。
※莱顿弗罗斯特效应
当液体与温度高于液体沸点的固体表面接触时，液体蒸发产生的一层薄薄的蒸气会抑制与固体接触区域的热传导，从而阻止液体立即蒸发。例如，您可以通过在热煎锅上滴一滴水来检查这一点。
相关链接)[前沿研究]（XK星空网站）
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