先进雾沉积技术实验室
实验室概览
实验室目标
我们的生活由各种电子元件（设备）支撑。在电子元件的制造中，前端工艺是最重要的，而在前端工艺中，薄膜形成需要最先进的技术开发。
因此，为了通过薄膜形成技术的发展来建立提高电子元件性能的技术，该实验室计划开发用于控制构成元件的材料的性质以及材料之间的粘合界面的状态的技术。
为此，我们将对每种功能薄膜和元件的制造和评估进行研究；从实验和计算的角度努力开发改进每种属性的机制；并进行旨在建立能够优化目标材料性能的下一代功能膜形成技术的研究。
研究方向及未来展望
在这个实验室中，我们开发各种氧化物（特别是Ga和Zn）薄膜的外延生长技术，重点关注“雾化学气相沉积（CVD）”，这是一种在大气压下合成功能薄膜的基于溶液的方法；以及抑制和减少这些薄膜中缺陷发生的技术；并使用这些技术来创建设备。
此外，通过向希望使用雾涂层或雾合成功能性薄膜的公司和研究人员提供通用研究设备CVD，我们将获得用于促进合作研究的预算，并将结果作为论文发表。
我们将重点关注以下四个主题：
1。传统方法的扩展
目的是建立利用雾合成具有低密度缺陷的功能薄膜的技术CVD方法。
2。新技术开发
我们将致力于开发新的功能薄膜合成技术，以取代同质和异质外延生长。
3。利用雾的优势CVD
建立减少界面缺陷的技术。
4。参与全球研究交流
我们将创建一个系统，让世界各地的研究人员能够使用通用研究设备。