雾膜形成先进技术实验室
实验室概览
目的
我们的生活由各种电子元件（设备）支撑。 “前工序”是电子器件制造中最重要的，而在前工序中，薄膜形成需要最先进的技术开发。
因此，通过薄膜形成技术的发展，我们的实验室计划开发控制构成器件的材料的特性以及材料之间的接合界面状态的技术，并计划建立提高器件性能的技术。为此，我们开展与各种功能薄膜和元件的制造和评估相关的研究，努力从实验和计算的角度阐明改善每种性能的机制，并进行研究，旨在建立能够最大限度地发挥目标材料性能的下一代功能薄膜形成技术。
实验室成员
研究政策及未来展望
在这个实验室中，我们正在开发一种基于溶液的功能膜合成方法，称为“MIST”，在大气压下进行。CVD”技术为中心，开发各种氧化物（特别是Ga和Zn）薄膜的外延生长技术，开发抑制和减少这些薄膜中缺陷发生的技术，并使用这些技术来制造器件。
此外，通过为希望通过雾镀或雾CVD合成功能薄膜的公司和研究人员使用通用研究设备，我们可以促进联合研究（获得预算）并以论文的形式传播结果。
1。传统方法的扩展
我们的目标是建立一种使用雾气CVD合成低缺陷密度功能薄膜的技术。
2。新技术开发
我们将致力于开发新的功能性膜合成技术来取代同源-异源-外延生长。
3。雾气 CVD 的优点
我们将建立一种减少界面缺陷的技术。
4。与世界交流
我们将建立一个系统，让世界各地的研究人员能够使用通用研究设备。
