2010.1.19活动
我们将参加“NanoBio Expo 2010”，这是纳米与生物的融合业务。
纳米器件研究所教授平尾隆和环境科学与工程系副教授堀井茂将参加将于 2 月 17 日（星期三）至 2 月 19 日（星期五）在东京国际展示场举办的“NanoBio Expo 2010”，为期三天。 ■举办时间：2010年2月17日星期三～2010年2月19日星期五开放时间：10:00～17:00 ■地点：东京国际展示场东6号馆（东京都江东区有明3-11-1） *XK星空将在东6号馆四国TLO展位展出。 ■在线预登记（免费） 预登记者将收到免费邀请函展览门票。请从NanoBio Expo 2010官方网站报名。 http://wwwnanobioexpojp■XK星空展出纳米器件研究所教授平尾隆副教授古田守助理教授平松隆宏“使用新型等离子体源和低温高速绝缘膜的等离子体CVD设备・技术概述结构极其简单的新型等离子体CVD装置，配备可处理小面积到大面积基板的高密度等离子体源，能够在低温（RT至150°C）下快速形成高质量绝缘膜，以及使用该装置的薄膜合成技术。 ・工业应用（使用优点、预期用途等） 该装置是在低熔点薄膜基板或各种装置上低温下形成薄膜的极其有效的装置和薄膜合成技术。等离子体源的配置可以在低熔点薄膜基板和卷绕基板的两面低温、高速沉积保护膜和器件用薄膜，这在开发高可靠性柔性基板或柔性器件应用方面具有极大的优势，它还可以应用于柔性电子纸、有机EL显示器等以及一般玻璃基板上的薄膜生长。 ◇环境科学与工程学院副教授堀井茂“控制取向结构”。 “使用强磁场的功能陶瓷的技术概述” - 技术概述 轧制和熔融凝固是生产高取向材料的工具，但也可以使用强磁场。强磁场取向方法利用材料的磁各向异性，可以在室温下非接触地形成取向结构。还可以实现三个晶轴对齐的三轴晶体取向。 ・工业应用：通过胶体过程等熔融来创建高取向陶瓷。